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製品情報

ナノテックの洗浄装置は、半導体製造におけるクオリティーと効果を大幅に向上させるための最適なソリューションです。 最高の技術とサービスで業界ビジネス成功の貢献へ導きます。

SiC 対応 枚葉洗浄装置

ラップ・研磨後ウエハの洗浄に使用されます

SiC 対応 枚葉洗浄装置

概 要

  1. 6インチ及び8インチSiC基板ウエハに対応
  2. パーティクルを最小限に抑えるため、各工程毎にFFUを設置
  3. Wet-IN Dry-OUT、洗浄中搬送ロボット・洗浄後搬送ロボットの構成
  4. 省スペース、高スループット、タクトタイム
    6”60秒/枚 8”80秒/枚 (洗浄レシピにより変化します)

仕 様

両面ロールブラシ洗浄にて物理的に大サイズのパーティクルを除去します。
超音波洗浄にて物理的に中サイズのパーティクルを除去します。
Si面にO3水を用いて強制的にSiO2膜を生成します。酸化膜と一体化した有機物・メタル等を酸(HF等)を用いて、膜ごと除去します。
純水で表面をリンス洗浄し、ウエハを高速回転して乾燥させます。

GaN 対応 枚葉洗浄装置

研磨後ウエハの洗浄に使用されます

GaN対応枚葉洗浄装置

概 要

  1. 2”・4”・6”対応 GaN基板ウエハに対応
  2. パーティクルを最小限に抑えるため、各工程毎にFFUを設置
  3. Wet-IN Dry-OUT、洗浄中搬送ロボット・洗浄後搬送ロボットの構成
  4. 省スペース、高スループット、タクトタイム
    (洗浄レシピにより変化します)

仕 様

両面ロールブラシ洗浄にて物理的に大サイズのパーティクルを除去します。
純水でリンス洗浄し、その後ウエハを高速回転して乾燥させます。